无序半导体中的迁移率
在前面的章节中,我们介绍了态密度(DoS)以及多重俘获模型,其中载流子 可以占据延展态(自由载流子)或局域态(陷阱)。这一图景自然导致这样的认识: 无序半导体中的迁移率不能被视为常数材料参数。 相反,它取决于在任意给定的位置、能量和时间点有多少载流子是自由的、多少是被俘获的。 理解这种依赖性至关重要,因为无序材料中的输运不仅由自由载流子的 本征迁移率决定,还由俘获与释放的动力学所支配。本节展示模型如何 考虑这些效应,以及为何由此得到的“有效迁移率”同时依赖载流子密度并且随时间变化。
迁移率与载流子密度
在晶体半导体中,载流子迁移率通常可近似为常数。 然而在无序材料中,载流子要么是自由的,具有有限的迁移率 \(\mu_e^0\) 和 \(\mu_h^0\), 要么被俘获,迁移率为零。因此,平均迁移率 取决于自由载流子与俘获载流子的比值:
\[ \mu_e(n) = \frac{\mu_e^0 \, n_{\mathrm{free}}}{n_{\mathrm{free}} + n_{\mathrm{trap}}}. \]
如果所有电子都是自由的,迁移率等于 \(\mu_e^0\);如果全部被俘获,则有效迁移率为零。 在实际中,自由载流子的比例随载流子密度而变化,因此迁移率会在器件内部空间变化, 并且在不同偏置或照明条件下也会变化。这种依赖性至关重要:如果缺少它,模型将无法捕捉 无序半导体中占主导地位的输运物理。
为什么密度很重要?
迁移率决定载流子在器件中移动并在电极处被收集的效率。 在陷阱主导的材料中,当相当一部分载流子被俘获时,有效迁移率会降低。 正确刻画这种密度依赖性对于预测 J–V 曲线、复合速率 以及瞬态响应至关重要。
迁移率作为动态量
由于自由–俘获载流子平衡取决于工作条件,迁移率也是一个 动态量。 CELIV 或 ToF 等瞬态技术清楚地体现了这一点。例如,在 CELIV 仿真中,有效 迁移率 \(\mu_e(n)\) 会在负电压斜坡期间降低:随着载流子被提取,剩余的自由载流子减少, 表观迁移率下降。如果随后应用标准 CELIV 分析公式来提取单一数值,结果将既不匹配 输入迁移率 \(\mu_e^0\),也不匹配斜坡过程中 \(\mu_e(n)\) 的瞬时取值。
这说明了一个普遍原则:在无序半导体中,迁移率不是固定常数,而是会随时间、电压、
照明以及测量方法而演化的性质。因此,模型将有效迁移率
\(\mu_e(n)\) 和 \(\mu_h(p)\) 作为位置与时间的函数输出,并存储于
mu_n_ft.dat、mu_p_ft.dat、dynamic_mue.dat 和 dynamic_muh.dat 中。
这些数值反映了器件内部的实际输运条件。
其实际含义是:当引用无序半导体的“迁移率”时,它只在所关注的工作条件下才有意义。 例如,在有机太阳能电池中,最相关的迁移率是 在 1 Sun 照明下、接近 J–V 曲线最大功率点时的迁移率。使用脱离语境的单一常数数值 可能会产生误导。