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光线追迹教程(第 B 部分):编辑光源

第 A 部分 中,你加载了 薄膜反射 光线追迹演示,并查看了光线如何从由 AFM 图像生成的粗糙表面反射。在本部分中,你将学习如何 编辑光源:更改它们的位置、朝向与发射 模式,然后重新运行仿真以观察反射光线如何响应。

步骤 1:打开光源编辑器

从你在第 A 部分创建的仿真开始。旋转并缩放视图,以便 你能清楚地看到其中一个绿色的光源标记。然后在 光源上右键单击,并从上下文菜单中选择 编辑对象,如 ?? 所示。 这将打开光源编辑器窗口。

Zoomed view of the simulation with a right-click menu open on the light source and the Edit object option highlighted.
右键单击光源并选择 编辑对象 以打开光源 编辑器。它允许你更改光源的位置、尺寸与发射特性 。
Object tab of the light source editor showing the offset, xyz size, number of objects and rotation fields.
光源编辑器的 对象 选项卡。
在此你控制位置(偏移)、物理尺寸(xyz 尺寸) 以及发射面片的旋转。当旋转为零时,dxdy 定义一个与 x、y 轴对齐的平面矩形光源。

步骤 2:设置位置与尺寸(对象选项卡)

光源编辑器会在 对象 选项卡上打开 (??)。 该选项卡在 Optical Workbench 的许多对象类型中通用。它控制:

对于我们的光源,重要的数值是 dxdy, 它们指定发射区域在 x–y 平面内的宽度与高度。当旋转 设为零时,这对应于一个与网格对齐的平面矩形面片。 该面片随后作为起始区域,用于发射单独的光束。

现在先保持位置与尺寸不变。在教程的后续部分,你可以 试着将光源做大或做小,或使用 对象数量 字段创建多个光源。

步骤 3:控制发射角(配置选项卡)

接着,点击编辑器的 配置 选项卡。它会显示一些设置, 用于决定光源如何发光,如 ?? 所示。

Configure tab of the light source editor showing emission angles and beam settings.
光源编辑器的 配置 选项卡控制光源的发射模式。在此你设置中心角(Rotate Theta、Rotate Phi)、角度扫描范围(−Δθ、+Δθ、−Δφ、+Δφ),以及在 x 与 y 方向发射的光束数量。
Orientation markers showing the x, y, z axes and the theta/phi angle conventions.
x、y、z 轴以及角度 θ 与 φ 的朝向标记。这些标记出现在仿真窗口的一个角落,并定义方向约定:θ 是相对于 +z 轴的极角,φ 是 x–y 平面内的方位角。

关键字段包括:

在所示配置中,θ 设为 0°,因此主发射方向为水平, 而 φ = 30° 表示光束扇形在 x–y 平面内发生旋转。φ 的扫描步进 会使光线在探测器上横向扫动。

步骤 4:在 3D 视图中理解 θ 与 φ

你可能会问:我如何知道 θ 与 φ 指向哪里?为此, Optical Workbench 会在仿真窗口的一个角落显示小的方向标记, 如 ?? 所示。 它们显示 x、y、z 轴以及 θ 与 φ 的定义。

如果这些标记不易立即看到,稍微旋转或缩放视图;它们始终 位于 3D 场景的某个角落附近。

步骤 5:让光束指向下方

作为练习,你现在将重新定向光源,使其 向下 照射到粗糙薄膜上,而不是侧向入射。

  1. 配置 选项卡中,调整 Rotate ThetaRotate Phi,使主光束方向指向薄膜。
  2. 暂时保持范围(−Δθ、+Δθ、−Δφ、+Δφ)以及光束数量不变。
  3. 点击光源编辑器工具栏中的 Rebuild 以应用更改。
  4. 关闭编辑器并点击 运行仿真(或按 F9) 重新运行光线追迹。

你应当看到光线现在从上方入射并打到表面上,而不是从侧面扫入。 将新的光线分布与原始配置对比,是建立对 θ 与 φ 角度直觉的好方法 。

步骤 6:在 3D 中移动光源

当你得到一个向下指向的光源后,你也可以横向移动它,以照亮粗糙薄膜的不同 区域。在主 3D 视图中选中光源,并用左键拖拽到表面中央附近的新位置。示例见 ??

Simulation view showing the light source moved to the centre above the rough film.
使用鼠标将光源移动到场景中心。 当光束被重新定向为向下后,此配置将 照亮粗糙薄膜的中心区域。
Optical mesh editor showing the wavelength range and sampling points used for ray tracing.
光学网格编辑器。该窗口控制仿真哪些波长。 这里以 50 个采样点对 300–800 nm 的范围进行采样,生成的 光谱网格显示在底部坐标轴上。

移动光源后,再次运行仿真并观察探测器上的光线分布 如何变化。你也可以像第 A 部分所述那样,在 输出 选项卡中查看更新后的探测器效率曲线。

关于光学光源的最后说明

光源发射的波长数量可在 光学 功能区中通过 光学网格编辑器 来控制 (??)。 该网格定义了光线追迹计算期间使用的光谱采样,并会 直接影响波长相关图(例如反射或 透射光谱)的精度以及整体仿真速度。

一般而言,在搭建仿真时最好先使用 较少的波长数 。大约 8 个波长 的粗网格通常足以 用于定位光源、检查几何结构,并验证光线 的行为是否符合预期。一旦你确信配置正确,就可以增加 网格密度到 40–50 个波长,以获得平滑、高质量的光学 光谱。

每个波长都会在独立的 CPU 线程上分别仿真。这意味着如果你的 计算机有很多核心,OghmaNano 将会几乎线性地随波长数扩展: 可用线程越多,多波长仿真就越快。相反,在只有少量核心的机器上选择 过于精细的网格可能会显著降低仿真速度。因此,选择合适的波长数量 需要在精度与速度之间取得平衡。

👉 下一步:继续阅读 第 C 部分 以探索更高级的分析,包括角度分辨统计以及将数据导出用于外部绘图。