光线追踪教程（第 C 部分）：更改表面

在 第 A 部分中，你加载了 薄膜反射 光线追踪演示，而在 第 B 部分中，你编辑并移动了 光源。在最后这一部分中，你将更改 表面本身。 原始演示使用从 AFM 图像导出的粗糙表面，但 OghmaNano 允许你将其替换为数据库中的其他形状，并更改该 对象的光学材料。这对于探索不同纹理与折射率如何影响反射与散射非常有用。

步骤 1：打开表面对象编辑器

从你在第 A 与第 B 部分中配置的模拟开始。缩放并旋转视图，使红色 AFM 表面清晰可见。 在表面上右键单击，并从右键菜单中选择 编辑对象，如 ?? 所示。 这将为所选表面对象打开 对象编辑器 窗口 （??）。

对象编辑器列出了表面的一般参数：

• 偏移（x, y, z）：表面在场景中的位置。
• 旋转：绕 x、y 与 z 轴的旋转角。
• 光学材料：使用的材料模型（例如硅）。
• 对象形状：定义实际表面轮廓的 3D 几何。

在本教程中，我们将保持位置与旋转不变，而改为修改 对象形状 与 光学材料。

步骤 2：打开网格编辑器并选择新形状

要更改表面几何形状，请点击对象编辑器中 对象形状 字段右侧的 三个点。 这将打开 网格编辑器 （??）， 该编辑器控制对象几何形状如何生成。

在网格编辑器中，确保选择了 形状数据库 选项卡。 当前形状为 AFM 图像（显示在文本字段中）。你也可以根据需要调整 xyz 尺寸 数值以缩放对象，但在本教程中我们将保持默认尺寸。

点击形状字段旁的 三个点 按钮。形状数据库窗口将打开 （??）， 列出所有可用形状。双击 saw_wave（或 saw_wave）以选择它。网格编辑器现在将引用锯齿波 轮廓，而不是 AFM 图像。

关闭网格编辑器并返回主光学工作台窗口。3D 视图中的表面现在应显示为锯齿波结构， 而不是原始 AFM 导出的粗糙度，如 ?? 所示。

步骤 3：重新运行模拟并检查输出

点击 运行模拟（或按 F9）以对新表面进行光线追踪。 模拟完成后，像第 A 部分一样打开 输出 选项卡，并 导航到探测器输出。双击 detector_efficiency0.csv 文件 以查看探测器效率随波长变化的曲线。

将该光谱与原始 AFM 表面得到的光谱进行比较。你应当会看到效率曲线的细节形状发生变化， 因为散射与逃逸概率现在取决于锯齿波几何，而非 AFM 粗糙度。

步骤 4：更改光学材料（Si → ITO）

同一个对象也可以被赋予不同的光学材料。这使你能够将几何效应与折射率与吸收的效应分离。

1. 为表面重新打开 对象编辑器（右键单击表面并选择 编辑对象）。
2. 找到 光学材料 字段。在当前示例中它被设置为硅条目（例如 inorganic/si）。
3. 点击光学材料字段旁的 三个点 以打开光学材料数据库。
4. 选择合适的 ITO 条目（例如 inorganic/ito）并确认你的选择。
5. 关闭数据库窗口并确保对象编辑器中显示新的 ITO 材料，然后关闭编辑器。
6. 再次运行模拟，并像之前一样检查 detector_efficiency0.csv。

通过比较（i）带硅材料的 AFM 表面、（ii）带硅材料的锯齿波表面，以及（iii）带 ITO 材料的锯齿波表面的探测器效率， 你可以开始分离 表面形貌 与 折射率 如何共同影响 收集到的光。