掺杂编辑器

1. 概述

使用 掺杂编辑器 为每一层设置固定电离掺杂（受主/施主），并在相关情况下为钙钛矿添加可移动离子。可从 Electrical 功能区点击 Doping/Ions 图标打开。图中显示器件中的剖面分布；下方表格用于编辑 数值。

2. 参数

表格提供以下字段（单位为 SI）：

• Layer — 层名称（只读，用于显示/上下文）。
• Na0, Na1 (m^-3) — 电离受主密度， 位于该层的起始与结束位置。设置不同的数值会在层厚方向产生 线性梯度。
• Nd0, Nd1 (m^-3) — 电离施主密度， 位于该层的起始与结束位置。同样，不同数值会形成线性梯度。
• Nion(+) (m^-3) — 可移动正离子密度（用于钙钛矿及 类似体系）。该数值在每层内均匀（无梯度）。
• Nion μ (m² V^-1 s^-1) — 该层中可移动离子的 迁移率。

图形会更新以反映所指定的剖面。受主/施主可通过 0/1 起始–结束对在每层内实现线性 梯度；可移动离子不进行梯度处理，并作为每层常数且具有指定迁移率。

3. 它们如何被应用

固定掺杂对泊松方程中的空间电荷作出贡献，并设定内建电场、 界面处的耗尽/积累以及平衡载流子分布。层内线性梯度会产生内部电场，从而影响漂移-扩散输运， 进而影响 JV 特性。

当存在可移动离子时，其密度与迁移率决定了在偏置与光照下电荷如何重新分布。 这会影响瞬态响应（例如缓慢的滞后与弛豫）以及钙钛矿器件的稳态工作点。若可移动离子与您的器件结构无关，请将 Nion(+) 设为零。