发射编辑器

1. 概述

发射编辑器 允许您控制器件有源层内的发光方式，既包括 光致发光（PL）， 也包括 电致发光（EL）。只有电学有源层能够发光。 通过在 器件结构 选项卡左侧菜单中点击 发射参数 来打开该编辑器。 随后，您可以使用编辑器窗口左上角的开关为每个有源层启用或禁用发射。

2. 参数

当启用发射时，将提供以下选项：

• 使用实验发射光谱 — 若启用，发射光谱将直接取自 材料数据库。 所选材料必须存在有效光谱。许多常见材料已包含测量光谱。
• 自由-自由发射 — 切换带-带复合是否产生光子。 开 表示复合产生光；关 表示复合为暗过程。
• 自由-陷阱发射 — 设置自由-陷阱复合是否对发光有贡献。 开 产生光子；关 表示这些事件为暗过程。
• 实验发射光谱 — 数据库中发射光谱文件的路径/名称 （除非手动编辑，否则为只读）。
• 实验发射效率 — 光子产生的效率因子（0.0–1.0）。 取值 1.0 表示每次复合事件都产生一个光子；0.5 表示只有一半事件产生光子。

若禁用 使用实验发射光谱，将出现额外字段， 用于为不同复合/俘获通道指定光子产生效率：

• n_free → p_free 光子产生效率
• n_free → n_trap 光子产生效率
• n_trap → p_free 光子产生效率
• p_trap → n_free 光子产生效率
• p_free → p_trap 光子产生效率

每个取值范围为 0.0–1.0，用于指定产生光子的复合事件所占比例。 这允许对更复杂的辐射与非辐射复合路径进行建模，例如 与红外或缺陷光谱学相关的陷阱介导发射。

3. 光线追踪

底部区域用于配置对发射光子的光线追踪的角度采样：

• Theta steps / Theta start / Theta stop — 极角方向的角度切片数量（度）。
• Phi steps / Phi start / Phi stop — 方位角方向的角度切片数量（度）。
• Emit from — 设置层内的发射起点（例如每层中心）。

这些参数共同定义了在发光层周围球面上采样的光线角分布。 例如，采用 180 个 theta 步进（0–360°）和 25 个 phi 步进（0–360°）时， 仿真会采样完整球面范围内的发射方向分布。