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OghmaNano Piattaforma di simulazione multifisica per dispositivi optoelettronici e sistemi fotonici SCARICA Guida rapida per iniziare.

Simulazione di dispositivi a base di silicioSimulazione di dispositivi a base di silicio

3D view of a silicon PN junction device in OghmaNano
Modellizzazione della giunzione PN al silicio cristallino in OghmaNano mediante l’utilizzo del metodo completo di deriva-diffusione, integrato con il risolutore di Poisson.
3D view of a silicon PN junction device in OghmaNano
Modellizzazione della giunzione PN al silicio cristallino in OghmaNano mediante l’utilizzo del metodo completo di deriva-diffusione, integrato con il risolutore di Poisson.
NMOS capacitor schematic showing accumulation and depletion
Elettrostatica dei dispositivi MOS in silicio: curvatura delle bande di energia, potenziale superficiale, accumulo e svuotamento di carica.
NMOS capacitor schematic showing accumulation and depletion
Elettrostatica dei dispositivi MOS in silicio: curvatura delle bande di energia, potenziale superficiale, accumulo e svuotamento di carica.
2D NMOS capacitor structure in OghmaNano
Un dispositivo costituito da un condensatore MOS in silicio bidimensionale, utilizzato per studiare il controllo elettrostatico all’interfaccia Si/SiO2.
2D NMOS capacitor structure in OghmaNano
Un dispositivo costituito da un condensatore MOS in silicio bidimensionale, utilizzato per studiare il controllo elettrostatico all’interfaccia Si/SiO2.
Dark IV curve of a silicon PN junction diode
Esempio di risultato: curva caratteristica corrente-tensione (I–V) di un diodo al silicio a conduzione inversa, ottenuta tramite il risolutore che utilizza il modello di deriva-diffusione.
Dark IV curve of a silicon PN junction diode
Esempio di risultato: curva caratteristica corrente-tensione (I–V) di un diodo al silicio a conduzione inversa, ottenuta tramite il risolutore che utilizza il modello di deriva-diffusione.
Band bending in a silicon NMOS capacitor
Esempio: curvatura delle bande di conduzione e di valenza in un condensatore MOS al silicio sottoposto a una tensione di polarizzazione sul gate.
Band bending in a silicon NMOS capacitor
Esempio: curvatura delle bande di conduzione e di valenza in un condensatore MOS al silicio sottoposto a una tensione di polarizzazione sul gate.
Suns-Voc curve for an amorphous silicon solar cell
Esempio di risultati: analisi Suns-Voc per una cella solare in silicio amorfo, in cui le prestazioni sono limitate da difetti.
Suns-Voc curve for an amorphous silicon solar cell
Esempio di risultati: analisi Suns-Voc per una cella solare in silicio amorfo, in cui le prestazioni sono limitate da difetti.

OghmaNano offre un ambiente di simulazione basato sulla fisica, che consente di modellare dispositivi a giunzione in silicio cristallino, l’elettrostatica dei dispositivi MOS e le celle solari in silicio amorfo a film sottile. Invece di trattare il silicio come un unico materiale generico, il software permette di scegliere il livello di dettaglio fisico più appropriato al problema: una simulazione completa trasporto basato sulla deriva e sulla diffusione + equazione di Poisson per i dispositivi a giunzione, un controllo elettrostatico della griglia per i condensatori MOS e una modellazione combinata ottica + elettricità per le strutture a film sottile illuminate.OghmaNano offre un ambiente di simulazione basato sulla fisica, che consente di modellare dispositivi a giunzione in silicio cristallino, l’elettrostatica dei dispositivi MOS e le celle solari in silicio amorfo a film sottile. Invece di trattare il silicio come un unico materiale generico, il software permette di scegliere il livello di dettaglio fisico più appropriato al problema: una simulazione completa trasporto basato sulla deriva e sulla diffusione + equazione di Poisson per i dispositivi a giunzione, un controllo elettrostatico della griglia per i condensatori MOS e una modellazione combinata ottica + elettricità per le strutture a film sottile illuminate.

Questo rende OghmaNano utile sia per... insegnamento della fisica dei semiconduttori secondo i principi fondamentali e per analisi di dispositivi a livello di ricercaÈ possibile studiare come un profilo di drogaggio determina il campo intrinseco in una giunzione PN e come una tensione applicata al gate modifica le bande energetiche nel silicio in corrispondenza di uno strato di SiO.2 interfaccia, ovvero come la ricombinazione mediata dai difetti limita la tensione di una cella solare in silicio amorfo. Se desiderate una panoramica più completa dell’insieme degli strumenti di risoluzione, consultate la pagina con esempi di modelli di deriva-diffusione e sezione relativa alla teoria della deriva-diffusione. Questo rende OghmaNano utile sia per... insegnamento della fisica dei semiconduttori secondo i principi fondamentali e per analisi di dispositivi a livello di ricercaÈ possibile studiare come un profilo di drogaggio determina il campo intrinseco in una giunzione PN e come una tensione applicata al gate modifica le bande energetiche nel silicio in corrispondenza di uno strato di SiO.2 interfaccia, ovvero come la ricombinazione mediata dai difetti limita la tensione di una cella solare in silicio amorfo. Se desiderate una panoramica più completa dell’insieme degli strumenti di risoluzione, consultate la pagina con esempi di modelli di deriva-diffusione e sezione relativa alla teoria della deriva-diffusione.

Cosa puoi simulare.Cosa puoi simulare.

Silicio cristallino: deriva e diffusione nella giunzione PNSilicio cristallino: deriva e diffusione nella giunzione PN

Per i dispositivi a base di silicio cristallino, OghmaNano risolve direttamente il sistema di equazioni accoppiate equazioni di deriva-diffusione e di Poisson. Ciò consente di superare le limitazioni delle equazioni ideali dei diodi e di analizzare la fisica interna: la regione di svuotamento, la curvatura delle bande energetiche, le correnti di elettroni e lacune e il modo in cui i processi di SRH e di ricombinazione di Auger modificano la curva corrente-tensione al buio.Per i dispositivi a base di silicio cristallino, OghmaNano risolve direttamente il sistema di equazioni accoppiate equazioni di deriva-diffusione e di Poisson. Ciò consente di superare le limitazioni delle equazioni ideali dei diodi e di analizzare la fisica interna: la regione di svuotamento, la curvatura delle bande energetiche, le correnti di elettroni e lacune e il modo in cui i processi di SRH e di ricombinazione di Auger modificano la curva corrente-tensione al buio.

Questo flusso di lavoro è particolarmente utile per comprendere come il comportamento della giunzione al silicio dipenda da doping, durata della vita; a vita, livello di iniezionee progettazione dell’area di contattoIn tutorial sulla giunzione PN al silicioOghmaNano viene utilizzato per analizzare come la ricombinazione rimanga localizzata in prossimità della giunzione a bassa polarizzazione e si diffonda in modo più ampio all’interno del dispositivo in caso di elevata iniezione di corrente in polarizzazione diretta. Inoltre, si collega in modo coerente al concetto generale. pagina di destinazione basata sui modelli di deriva e diffusione e le pagine contenenti spiegazioni più approfondite sulla teoria SRH e Fisica degli spettrometri Auger. Questo flusso di lavoro è particolarmente utile per comprendere come il comportamento della giunzione al silicio dipenda da doping, durata della vita; a vita, livello di iniezionee progettazione dell’area di contattoIn tutorial sulla giunzione PN al silicioOghmaNano viene utilizzato per analizzare come la ricombinazione rimanga localizzata in prossimità della giunzione a bassa polarizzazione e si diffonda in modo più ampio all’interno del dispositivo in caso di elevata iniezione di corrente in polarizzazione diretta. Inoltre, si collega in modo coerente al concetto generale. pagina di destinazione basata sui modelli di deriva e diffusione e le pagine contenenti spiegazioni più approfondite sulla teoria SRH e Fisica degli spettrometri Auger.

Inizia da qui: Tutorial sul diodo a giunzione PN al silicio.Inizia da qui: Tutorial sul diodo a giunzione PN al silicio.

Elettrostatica dei dispositivi MOS al silicio: accumulo, svuotamento e curvatura delle bande di energia.Elettrostatica dei dispositivi MOS al silicio: accumulo, svuotamento e curvatura delle bande di energia.

OghmaNano consente inoltre di simulare l’elettrostatica dei condensatori MOS, facilitando l’insegnamento e l’analisi dei principi fisici fondamentali alla base del funzionamento dei transistor NMOS. In questo flusso di lavoro, l’ossido viene trattato come un dielettrico isolante e il silicio come la regione in cui si muovono le cariche, in modo da poter esaminare come la tensione applicata al gate si distribuisce tra l’ossido e il semiconduttore e come ciò determina l’accumulo o l’impoverimento della superficie.OghmaNano consente inoltre di simulare l’elettrostatica dei condensatori MOS, facilitando l’insegnamento e l’analisi dei principi fisici fondamentali alla base del funzionamento dei transistor NMOS. In questo flusso di lavoro, l’ossido viene trattato come un dielettrico isolante e il silicio come la regione in cui si muovono le cariche, in modo da poter esaminare come la tensione applicata al gate si distribuisce tra l’ossido e il semiconduttore e come ciò determina l’accumulo o l’impoverimento della superficie.

Questo approccio offre una chiara introduzione alla fisica dei dispositivi a base di silicio, poiché i risultati ottenuti si collegano direttamente ai concetti presentati nei libri di testo: potenziale superficiale, curvatura delle bande di energia, densità dei portatori liberi in prossimità dell’interfaccia e la distinzione tra controllo elettrostatico e trasporto di corrente. Gli esempi relativi al condensatore NMOS sono particolarmente utili per le lezioni, i laboratori e lo studio individuale, e si integrano in modo naturale con il più ampio modello di trasporto dei semiconduttori.Questo approccio offre una chiara introduzione alla fisica dei dispositivi a base di silicio, poiché i risultati ottenuti si collegano direttamente ai concetti presentati nei libri di testo: potenziale superficiale, curvatura delle bande di energia, densità dei portatori liberi in prossimità dell’interfaccia e la distinzione tra controllo elettrostatico e trasporto di corrente. Gli esempi relativi al condensatore NMOS sono particolarmente utili per le lezioni, i laboratori e lo studio individuale, e si integrano in modo naturale con il più ampio modello di trasporto dei semiconduttori.

Inizia da qui: Tutorial sul condensatore NMOS – Parte A e Parte B.Inizia da qui: Tutorial sul condensatore NMOS – Parte A e Parte B.

Silicio amorfo: celle solari a film sottile e tensione limitata dai difetti.Silicio amorfo: celle solari a film sottile e tensione limitata dai difetti.

OghmaNano supporta anche la modellazione di dispositivi a base di silicio amorfo idrogenato (a-Si:H), in cui le principali limitazioni sono molto diverse rispetto al silicio cristallino. Nei film sottili di a-Si:H, la mobilità dei portatori di carica è inferiore, il disordine è maggiore e la ricombinazione è tipicamente controllata dai processi SRH mediati da difetti. Il campo interno viene stabilito attraverso uno strato assorbitore intrinseco e la generazione ottica deve essere risolta insieme al problema elettrico.OghmaNano supporta anche la modellazione di dispositivi a base di silicio amorfo idrogenato (a-Si:H), in cui le principali limitazioni sono molto diverse rispetto al silicio cristallino. Nei film sottili di a-Si:H, la mobilità dei portatori di carica è inferiore, il disordine è maggiore e la ricombinazione è tipicamente controllata dai processi SRH mediati da difetti. Il campo interno viene stabilito attraverso uno strato assorbitore intrinseco e la generazione ottica deve essere risolta insieme al problema elettrico.

Questo rende l’a-Si:H un caso di riferimento molto utile per studiare la fototensione limitata dalla ricombinazione, la generazione ottica in assorbitori sottili e il comportamento in funzione della luce solare (Suns–Voc). OghmaNano può calcolare il profilo di generazione utilizzando il solutore ottico basato sulla matrice di trasferimento, inserirne i dati nel modello elettrico e quindi ricavare la curva corrente-tensione (JV) e il comportamento della tensione a circuito aperto risultanti. Per quanto riguarda la fisica dei difetti sottostanti, si veda anche perché i difetti sono necessari nei semiconduttori disordinati e teoria SRH non all’equilibrio.Questo rende l’a-Si:H un caso di riferimento molto utile per studiare la fototensione limitata dalla ricombinazione, la generazione ottica in assorbitori sottili e il comportamento in funzione della luce solare (Suns–Voc). OghmaNano può calcolare il profilo di generazione utilizzando il solutore ottico basato sulla matrice di trasferimento, inserirne i dati nel modello elettrico e quindi ricavare la curva corrente-tensione (JV) e il comportamento della tensione a circuito aperto risultanti. Per quanto riguarda la fisica dei difetti sottostanti, si veda anche perché i difetti sono necessari nei semiconduttori disordinati e teoria SRH non all’equilibrio.

Inizia da qui: Tutorial sulle celle solari in silicio amorfo (a-Si:H).Inizia da qui: Tutorial sulle celle solari in silicio amorfo (a-Si:H).

Quali sono i vantaggi dell’utilizzo di OghmaNano per la simulazione del silicio?Quali sono i vantaggi dell’utilizzo di OghmaNano per la simulazione del silicio?

Pagine correlate contenenti la teoria e degli esempi.Pagine correlate contenenti la teoria e degli esempi.

Tutorial interattivi sul silicioTutorial interattivi sul silicio

Vuoi approfondire l’argomento?Vuoi approfondire l’argomento?

👉 Iniziate con il tutorial sulla giunzione PN al silicio, approfondite l’argomento dell’elettrostatica del condensatore MOS, passate alla modellizzazione delle celle solari al silicio amorfo oppure consultate gli esempi generali relativi ai fenomeni di deriva e diffusione.👉 Iniziate con il tutorial sulla giunzione PN al silicio, approfondite l’argomento dell’elettrostatica del condensatore MOS, passate alla modellizzazione delle celle solari al silicio amorfo oppure consultate gli esempi generali relativi ai fenomeni di deriva e diffusione.